3D光刻機實現反超？EUV光刻機不再是必需品

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導讀：

明年交付！3D光刻機實現反超？EUV光刻機不再是必需品

眾所周知，光刻機是生產晶片的必要裝置之一，也是現代工業文明最頂級的智慧結晶，一臺領先的EUV光刻機中含有超過10萬個零部件，而這些零部件則是來自於全球超過5000家供應商，足見其研發難度有多大；值得一提的是全球領先的EUV光刻機一直都被荷蘭ASML公司所壟斷，而ASML公司的總部又搬到了美國，所以EUV光刻機其實也受到老美的限制，並不能自由出貨！

俄選擇研發“無掩膜X射線光刻機”

EUV光刻機作為生產晶片的必需品，一直以來都是供不應求的，但是現在EUV光刻機無法自由出貨，所以也讓很多國家開始打算自主研發先進的光刻機，這其中除了我國以外，還有俄羅斯也傳來了新訊息，俄將投入數百億盧布去研發頂級的光刻機產品，而俄選擇的則是比EUV光刻機使用的極紫外光源更強的“X射線”來研發光刻機，俄將研發一種“無掩膜X射線光刻機”，從核心技術上進行反超！

日本佳能重新研發光刻機

要知道，在全球晶片短缺的情況下，光刻機市場也將成為發展的關鍵，而且這是一個十分龐大的市場，既然市場有需求，那麼就會有科技企業進行研發，所以這時候不少科技巨頭企業都蠢蠢欲動，甚至就連日本的老牌光刻機巨頭企業佳能和尼康也已經宣佈將重新研發光刻機；要知道，日本佳能和尼康作為光刻機的鼻祖，在這一領域的研發實力也還是比較強的，如果不是老美的打壓，那麼在光刻機市場上也就沒有現在ASML的什麼事兒！

明年交付！3D光刻機實現反超？

當年日本在光刻機領域的實力是排名全球第一的，但在老美的“排擠”之下，日本佳能和尼康等光科技和巨頭很快就敗下陣來，而ASML也是這時候才趁機崛起的，所以在光刻機領域日本科技企業也是有實力進行研發，而現在日本光刻機巨頭佳能已經宣佈，將重回光刻機領域進行研發，並最快在明年交付一臺3D光刻機，而這一3D光刻機將透過實現堆疊複數半導體晶片，從而增加晶片的效能，這樣就可以直接繞開攻克EUV光刻機光源的問題，並對EUV光刻機進行顛覆和反超！

EUV光刻機不再是必需品

一直以來，荷蘭ASML公司都壟斷著EUV光刻機的市場，僅僅是在2021年，ASML就實現了186億歐元的營收，這也說明光刻機還是比較賺錢的；所以日本佳能等科技巨頭企業自然也就坐不住了，想要去在光刻機領域實現反超，只要實現新的技術層面的突破，那麼EUV光刻機也將不再是必需品！

如今，全球晶片短缺，很多國家都在大力的發展半導體晶片產業，隨著全球市場對晶片的需求不斷增加，那麼也將對生產晶片的必要裝置光刻機產生龐大的市場需求，這時候俄日都進入光刻機領域進行研發，很顯然也是想要和ASML搶奪市場，只要研發出了效能更強的光刻機，那麼EUV光刻機就有被替代的可能，讓我們拭目以待吧！