幹研磨溼研磨拋光的基本原理

幹研磨，主要是嵌入研磨平板表面的砂粒起切削作用。當零件在研磨壓力的作用下，在嵌有砂粒的研磨平板上相對滑動時，砂粒對被研磨表面的高點產生壓縮作用，由於內應力的增大而產生彈性變形。當應力超過屈服點後，就進入塑性變形，晶粒和晶粒之間產生滑移，隨著變形的增大，最後失去聯絡而破裂，這就是所謂的研屑。研磨輔料的存在，改善了切削條件，促進了研磨質量和效率的提高。當然，在切削作用的同時，還存在著其它一些輔助作用。如氧化膜的形成和去除；砂粒擠壓產生的塑性變形作用；摩擦和切削所起的熱熔作用，這些作用隨著磨料粒度的細化而增強。

溼研磨，由於不間斷的新增研磨劑，不但有新砂粒參加研削，而且砂粒的各個微刃變換切削，使各個鋒刃都發揮了作用，同時冷卻潤滑條件良好。隨著研磨劑中活化輔料的增加，化學作用和電化學作用也隨之增強。這是使之成為高效率研磨方法的主要原因。

拋光是一個十分複雜的加工過程。研磨劑中品種繁多的活化物質大量增加，化學作用十分活躍頻繁，磨料只起到破壞氧化膜的作用。同時，某些磨料的本身就起著化學作用。如氧化鉻中的遊離硫磺蒸汽與金屬表面起化學作用，形成了一層很薄的強度很低的硫化膜，它對硬脂酸和氧化鉻起吸附作用。當零件與研具相對滑動時，吸附在零件表面的氧化鉻將高點的硫化膜破壞，重新露出新鮮的金屬，復而又形成硫化膜，就這樣反覆不斷的對零件的波峰進行光整加工。

由於研具用極軟的材料製成，砂粒在拋光過程中，往往存在於軟基體之中，因而在一定範圍內，磨料的粒度對拋光效果影響不是很明顯。

幹研磨壓砂平板