延安光學清洗純水裝置系統各元件詳細說明

延安光學清洗純水裝置，清洗純水裝置的出水水質純度已經成為影響光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，因此光學領域對水質的要求也越來越高。同時，純水裝置的效能好壞，直接影響到純水的質量。

在光學產品生產中，不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產中，電子管陰極塗甫碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大效能及壽命。繼與東方、萬新、和元等光學企業水處理合作後，近日為誠投光學提供了光學清洗純水裝置服務，得到了使用者的肯定與好評。該純水處理工藝為：預處理+RO反滲透+EDI+拋光混床，出水電阻值大於18兆歐。

一，光學清洗純水裝置系統簡介：

在光學產品製造工藝中，大約有80％以上的工藝直接或間接需要用到超純水，並且大約有一半以上工序，如矽片直接與水接觸後，緊接著就進人高溫過程，此時水中含有的雜質就會進入矽片而導致IC器件效能下降、成品率降低。確切一點說，向生產線提供穩定優質的超純水將涉及到企業的成本問題。

1。預處理系統

預處理系統作為反滲透的前處理，主要目的是去除原水中的懸浮物、膠體、色度、濁度、有機物等妨礙後續反滲透執行的雜質。

預處理的裝置主要包括：原水箱、原水泵、多介質過濾器、活性炭過濾器等。

A。原水箱

原水首先流入原水箱。原水箱對原水的供給起到緩衝作用，協調原水的供給量與原水泵的輸入量。當原水的供應量超過原水泵的輸水量時，原水箱水滿，透過原水箱的液位元元控制使用原水供給停止。當原水供應量小於原水泵的輸水量時，原水箱空，原水泵停止執行，起到保護原水泵的作用。

B。原水泵

用於對原水加壓，為預處理系統提供動力源，該泵具有體積小，高效率，低噪音等特點。

C。加藥系統：（絮凝劑）

原水中投加入絮凝劑與原水中膠體、顆粒形成絮凝體，有利於在多介質過濾器中被過濾掉，提高過濾效果，進一步降低出水濁度，保證RO進水SDI≤2。

該裝置佔地小，安裝移動方便。就位後，只要接上水、電，即可使用，操作管理簡便，大大地減少操作人員的勞動強度。藥劑的投加隨高壓水泵的啟停而自動投加，藥劑新增量是可調的。

D。多介質過濾器

本系統是對原水中懸浮物、顆粒物及膠體等物質進行去除，同時對原水中的濁度、色度起到降低作用，它完全可能濾掉原水帶來的顆粒、藻類等可見物。

多介質過濾是一種先進的微絮凝過濾方式，多介質過濾器含有材質各異的多層過濾介質，完全能濾除不溶於水中的雜質，保證SDI值不大於3，是後級RO的強有力保護屏。能更好的去除水中的懸浮物或非溶解性粒子（氧化物、濁度、顆粒物等），具有低成本，操作維護、管理方便等特點，特別是在降低原水中的濁度、汙染指數等方面具有很好的效果。多介質過濾器反洗週期時間為16-24小時。反洗以壓力引數裝置來控制反衝洗週期，當進出水母管上的壓力差達到0。5kg/cm2時即停止執行進行反衝洗，反洗水可由單獨設定的反洗水泵供水控制和調節反洗水流量，反洗水強度應使濾層膨脹15-25%。反洗時送入壓縮空氣，擦洗濾料，其強度為30-50升/秒·米2，反洗水可用反滲透的濃水。

E。活性炭過濾器

市政自來水在經過消毒處理後，官網末梢的殘餘餘氯是一種強氧化劑，如果不加以去除，會對樹脂和反滲透造成不可逆轉的損壞。用活性炭進行吸附處理，可以非常徹底地去除餘氯。活性炭不僅吸附能力強，而且吸附容量大，其主要原因就是其多孔結構，其比表面積高達500-700m2/g。正是由於活性炭具有發達的細孔結構和巨大的比表面積，因此可以完全吸附水中的餘氯及吸附部分有機物，而且對色度、臭味也有較好的去除效果。

2。反滲透脫鹽水系統

反滲透系統承擔了主要的脫鹽任務。反滲透系統裝置包括阻垢劑加藥裝置、保安過濾器、一級高壓泵、一級反滲透膜組、NaOH加藥裝置、二級高壓泵、二級反滲透膜組、化學清洗系統等。

2。2。1阻垢劑加藥裝置

阻垢劑加藥系統在反滲透進水中加入阻垢劑，防止反滲透濃水中碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鈣等難溶鹽濃縮後析出結垢，堵塞反滲透膜。從而損壞膜元件的應用特性，因此在進入膜元件之前設定了阻垢劑投加裝置。阻垢劑是一種有機化合物質，除了能在朗格利爾指數（LSI） ＝2。6情況下執行之外，還能阻止SO42-的結垢，它的主要作用是相對增加水中結垢物質的溶解性，以防止碳酸鈣、硫酸鈣等物質對膜的阻礙，同時它也可以降低鐵離子堵塞膜的微孔。

本系統推薦使用進口PTP-0100複合阻垢劑，它具有：

1）抑制析出作用。

2）分散作用。

3）晶格扭曲作用。

4）絡合作用。

2。2。2 保安過濾器

經過前面的石英過濾器、活性炭過濾器之後，原水中大顆粒懸浮物已基本被除去，而一些小顆粒懸浮物則沒有被除去。在這裡，再進行一次微濾，去除5μm以上的懸浮物，以保護RO膜不被堵塞。同時，一些活性炭細沫也被截留在反滲透系統之外。保安裝過濾器進出口設壓力指示表，當壓差增大到設定值時更換濾芯。

2。2。3 NaOH加藥裝置

在二級反滲透高壓泵前加入NaOH，用以中和水中的CO2形成易於被RO膜脫除的Na2CO3。二氧化碳有兩種效果：首先CO2和Ca2+、Mg2+形成碳酸鹽類結垢，這種垢的形成與給水的離子濃度和PH有關。第二，由於CO2的電荷變化與PH值有關，而其被RO和EDI的除去都依賴於其電荷，他的去除效率是有變化的。即使較低的CO2都能顯著地降低產品水的電阻率。所以本工藝設計了加鹼調PH值技術，大大提高了RO系統的產水水質，滿足EDI 裝置對其進水水質的要求，真正的發揮出EDI的先進性。

2。2。4高壓泵

高壓泵是反滲透裝置的主要動力裝置，高壓泵設定有過熱保護，泵前後分別設定低、高壓保護開關。當高壓泵進水壓力低於設定值後，高壓泵停運，以保護高壓泵，當高壓泵出口壓力高於設定值後，高壓泵停運，以保護反滲透膜。

2。2。5清洗裝置

反滲透膜在長期執行中，表面會逐漸有進水中存在的各種汙染物的沉積而引起膜的汙染，這造成系統性能（脫鹽率和產水量）的下降，元件進出口壓差的升高；膜的定期清洗是防治膜汙染的主要措施之一。

反滲透裝置在停運和化學清洗前，都需要進行低壓水沖洗；

在執行較長時間後，若壓差明顯增大，產水量明顯下降，則需要進行化學清洗。

清洗劑選用膜專用清洗藥劑，絕對無汙染、無化學藥劑殘留；清洗裝置包括清洗水泵、清洗水箱以及清洗用精密過濾器等。

2。2。6反滲透裝置

反滲透系統主要去除水中溶解鹽類，同時去除一些有機大分子，前階段未去除的小顆粒等。包括：高壓泵、反滲透裝置、反滲透清洗系統等。

預處理系統產水進入反滲透膜組，在壓力作用下，大部分水分子和微量其它離子透過反滲透膜，經收集後成為產品水，透過產水管道進入後續裝置；水中的大部分鹽分和膠體、有機物等不能透過反滲透膜，殘留在少量濃水中，由濃水管排出。

在反滲透裝置停運時，自動沖洗3-5分鐘，以去除沉積在膜表面的汙垢，使裝置和反滲透膜得到有效保養。

反滲透膜經過長期執行後，會積累某些難以沖洗的汙垢，如有機物、無機鹽結垢等，造成反滲透膜效能下降。這類汙垢必須使用化學藥品進行清洗才能去除，以恢復反滲透膜的效能。化學清洗使用反滲透清洗裝置進行，裝置包括一臺清洗液箱、清洗過濾器、清洗泵以及配套管道、閥門和儀表。當膜元件受汙染時，可以用它進行RO系統的化學清洗。

2。2。7 RO產水箱

用於儲存反滲透產水，起到緩衝和調節水量的作用，防止進水壓力波動，保證高壓泵的安全穩定執行，並透過控制系統實現與高壓泵的連鎖。透過水箱的調節可保證RO系統在清洗時有足夠的水量供應後段用水，實現24小時連續執行。

3。EDI純水系統

EDI精處理系統主要功能是深一層除去水中的鹽類和離子，使水的純度提高（電阻率≥15。0MΩ。CM）；該裝置產出水水質穩定，產出的水質的電阻率可達16。0MΩ左右。裝置主要包括：EDI給水泵、精密濾器、EDI 裝置等。EDI裝置是應用有反滲透系統之後，取代混合離子交換床的成熟技術具有產水品質穩定，執行費用低，操作管理方便。佔地面積小及無有害廢水排放等優點。

3。3。1精密過濾器

0。22μm 過濾器的作用是截留經紫外線殺菌器殺死的細菌屍體，防止進入EDI系統。過濾器中的濾芯，當過濾器進出口壓差大於設定值（通常為0。07～0。1Mpa）時應當更換。安裝濾芯時應上下對中，否則會損壞濾芯，更嚴重的會失去過濾作用。

EDI正常執行的最低條件：

以下是保證EDI正常執行的最低條件。為了使系統執行效果更佳，系統設計時應適當提高這些條件。

★給水：RO純水，一般水的電導率為4-30us/cm。

★PH：5。0-8。0（在此PH條件下，水硬度不能太高）

★溫度：5-35℃

★進水壓力：最大為4kg/cm2（60psi），最小為1。5kg/cm2（25psi）。

注意：元件壓力損失取決於流量和水溫。

EDI元件標準配置：

★出水壓力：濃水和電極水的出口壓力必須低於產品的出口壓力。

★硬度（以CaCO3計）：最大為1。0ppm，建議採用0。1ppm。

★有機物：最大為0。05ppm。

★氧化劑：最大為0。05ppm（CL2），0。02ppm（03）。

★變價金屬：最大為 0。01 ppm Fe。

★二氧化矽：50-150ppb。

★二氧化碳CO2的總量：二氧化碳含量和PH值將明顯影響產品水電阻率。在大於10ppm時般應在EDI裝置前安裝脫氣裝置。

4。拋光混床（SMB）系統

設定拋光混床是為了更好地降低EDI系統過程中未脫盡的陽離子、陰離子，防止管路系統的二次汙染，滿足生產給水的需要，保證出水電阻率≥17。5-18。0MΩ。cm。拋光混床內裝填的樹脂為核級樹脂，失效後無需再生，直接更換。

在後續的水處理工藝中推薦採用拋光混合離子交換系統。這樣，一方面既可發揮樹脂交換容量大、無需再生等優越性，另一方面有利於保證出水水質（出水電阻率≥17。5-18。0MΩ），降低裝置執行成本。

5。光學清洗純水裝置的儲存、分配及滅菌：

對於一個有經驗的水處理公司來講，確定科學合理的純水製備工藝流程，才能製備出既可以達到使用者所需純水的化學指標，又能滿足其物理質量標準的純水。實踐證明，如果出水水質不合格，多數情況出現在純水在儲存及分配過程中的細菌二次汙染。科學的設計純水儲存和分配二環節，是保證純水不受二次汙染的重要手段。為此，東莞佳潔設計了真正的大迴圈供水方式，設計了20-30%的迴圈量，且回水管路加裝回水紫外線，可有效的預防微生物汙染。大迴圈管道採用低溶出物的C-PVC材質，減少純水在輸送過程中的微離子析出。

延安誠投光學15T/H雙級RO+EDI清洗用純水裝置