特殊功能性碳氫清洗劑在物理氣相沉積（PVD）工藝清洗工序中應用

PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。物理氣相沉積技術方法主要有真空蒸發鍍膜、離子鍍、濺射鍍膜等。

PVD技術基本工藝流程如下：

工件—鍍前處理—裝件—抽真空—烘烤—離子轟擊—預熔—蒸發沉積—冷卻—取件—後處理—成品

本文所說的特殊功能性碳氫清洗劑是碳氫清洗劑透過改性後其產品效能與清洗能力具有質的提升，是普通碳氫清洗劑無法徹底洗淨的。應用在鍍前處理清洗工序上，工件經清洗後，表面不得有油汙、油脂、水鏽和水漬等殘留物。清洗後的工件嚴禁用裸手觸控，工件應及時鍍膜或存放在潔淨的乾燥器、真空室內，存放不得超過24小時。

PVD清洗工藝根據工件清潔度的要求不同進行選擇：

1、 水基清洗

水基清洗—清水漂洗—2-3道去離子水漂洗—脫水—吹乾——-進入下道工序

2、 溶劑清洗

溶劑清洗—2-3道溶劑漂洗——-吹乾——-進入下道工序

3、 組合型清洗

溶劑清洗——-吹乾——-水基清洗劑—漂洗—電解清洗—漂洗—活化—漂洗—脫水——烘乾—進入下道工序

4、清洗劑的選擇：清洗劑的選擇根據油汙情況進行選用，如除蠟水、水基清洗劑、三氯乙烯等；水基清洗劑工藝複雜，用水量大，環保排放困難；溶劑型（如三氯乙烯）清洗效果好，工藝簡單，但揮發快，消耗量大，破壞環境，對人體有害，是國家要淘汰的產品

特殊功能性碳氫清洗劑清洗工藝如下：

功能性碳氫清洗劑——-功能性碳氫清洗劑—碳氫漂洗—碳氫漂洗—真空蒸汽清洗乾燥——-進入下道工序

根據 物理氣相沉積（PVD）工藝中清洗工序的要求，開發出的特殊功能性碳氫清洗劑是取代含氯、氟溶劑和水基清洗劑優秀產品，其清洗徹底，無排放之憂，工藝簡單，符合環保政策，可蒸餾回收使用成本低。特殊功能性碳氫清洗劑可以清洗拋光蠟、膠粘、油脂、油汙、切屑液、衝壓炭黑、松香等，特殊汙漬可個案開發。