ASML又傳來新訊息，關於新代的EUV光刻機，核心三大件已經到貨

ASML又傳來新訊息，關於新代的EUV光刻機，核心三大件已經到貨

ASML目前正致力於研發EXE5000的下一代High-NAEUV光刻機。這款光刻機將會使用高精度的孔徑系統，孔徑數達到0。55，是2奈米及以下晶片的核心。

英特爾，臺積電，三星，都已經預定了這臺光刻機。那麼ASML新一代高能鐳射刻蝕裝置又有什麼新的發展？

如果High-NAEUV光刻機能夠批次生產，那麼老款的EUV光刻功能是否會被允許自由出貨？

ASML新一代EUV光刻機的研製

ASML公司總部設在荷蘭，是世界上最大的光刻機生產商。雖然這家公司有生產EUV光刻機的能力，但實際上，英特爾和其他美企業，都建立了EUV聯盟。

EUV聯盟，顧名思義，就是一個研究EUV的機構。EUV聯盟中，美企眾多，但真正符合EUV光刻機制造要求的，卻是寥寥無幾。

最後，EUV聯盟選擇了一家公司，幫助他們生產EUV光刻機。但ASML也要受到歐美國家的限制，想要將EUV光刻機賣出去，必須要經過EUV聯盟的同意。

ASML沒有獲得EUV光刻機的免費出口許可證，就只能依靠DUV和其他型號的光刻機來維持在國內的市場。

另外，ASML也在努力開發新一代超紅外光刻機。一是追隨晶片廠商的步伐，在2nm晶片時代繼續保持領導地位。另外，我們也不排除為老EUV光刻機提供更多的訂單。

總之，ASML對於新一代High-NAEUV光刻機的研究，肯定是要加速的。

ASML前段時間公佈的業績報告中，新一代High-NAEUV光刻機的三大核心部件已抵達。其中包括：物鏡系統高NA機械投射光學元件、光源系統透鏡、新型晶片載物臺。

物鏡系統、光源和工作臺是三個主要組成部分，ASML的EUV光刻機將會與這三個關鍵元件相匹配。

現在還不清楚ASML三大元件的來源，不過有一點可以肯定，有了這三個關鍵部件，剩下的研發工作就會變得輕鬆許多。

只要按部就班地進行試驗，到2023年，High-NAEUV光刻機的樣機就會面世。到2024年開始量產，2025年大量交付，將會是ASML的新旗艦。在接下來的5-10年裡，High-NAEUV光刻機將引領著人類晶片技術的發展。

是時候放棄幻想了。

ASML那邊傳來了最新的訊息，NAEUV光刻機的最新訊息，三大核心部件都到齊了，這意味著一切都很順利。那麼，在大規模生產High-NAEUV光刻機之後，EUV光刻功能會不會被允許自由生產？

許多人希望ASML能向內地的EUV光刻機提供支援。但是明眼人都清楚，美國對ASML的EUV光刻機的生產狀況進行了干預。目前ASML還未獲得EUV光刻機的批文。

ASML不想做這種事情，因為中國的市場太大了，ASML想要做的事情，就必須要做得更大。例如，ASML在今年一季度將23部光刻機送往內地，比其他市場的發貨量都要高。可見ASML在內地的重要性。

因為EUV光刻機無法量產，ASML公司在國內的主要產品，都是DUV和其他型號的光刻機。

DUV光刻機，在EUV光刻機上，已經落後了一代。有了這個概念，ASML未來的High-NAEUV光刻機，就可以批次生產EUV光刻機了。

他必須放棄自己的幻想。如果真的是用最先進的技術，美國也不會讓荷蘭對DUV光刻機的出口進行限制了。

有訊息稱，美國正在請求荷蘭把DUV光刻機也列入禁止出口的清單。這個動作表明，老型號的裝置可以裝船的說法是不正確的。荷蘭方面並沒有因為DUV光刻機的供貨而對此作出反應，所以ASML公司還能將DUV光刻機送到其他的客戶手中。

ASML將在接下來的數年時間裡，大規模生產高功率NAEUV光刻機，臺積電，英特爾，三星，都宣佈將作為High-NAEUV光刻機的客戶。

雖然不少人都想讓ASML的老式EUV光刻系統能夠順利交付，但誰也不知道以後會發生什麼，與其指望別人怎麼做，還不如自己去做，掌握關鍵技術，走上一條屬於自己的道路。

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